三星电子今日宣布,它们将通过EUV光刻技术来加快11nm LPP、7nm LPP两种新工艺的进度,而前者预计最快会在2018年投产,而7nm LPP则需要等到2018年下半年。
三星表示,11nm LPP(Low Power Plus)给他们的客户提供了更多的选择,与之前的14nm LPP工艺相比,11nm LPP工艺有15%的性能提升,而且它的芯片面积还降低了10%。11nm LPP工艺的出现,让中高端智能手机有了更多的选择。三星认为,除了10nm FF工艺外,11nm LPP工艺的出现对于中高端智能手机意义非凡。而在EUV光刻技术下,7nm LPP工艺也在如期进行当中。